EVO? 18，具有處理所有類型 材料能力的分析顯微鏡為您 提供卓越的成像質量。
標配能譜儀（EDS）和波譜儀（WDS）接口，的 X 射線幾何條件對所 有樣品提供了的分析。對于非導體采用電子束襯管技術也提高了圖像質量和分析。可選擇 LaB6 高亮度光源，在與 X 射線分析相適應的探針 電流的性能上提高到一個新的水平。在 8.5 mm 的分析工作距離，EVO? 18 能夠處理的 樣品可達 250 mm 直徑和 145mm 高。此外，共面的設計為 EBSD 與 EDS 的聯合使用提 供了理想的幾何條件。無論何時對于你的材料分析的挑戰，EVO? 18 都能使你的 樣品清晰可見。● 配備 X 射線能譜儀并具有的 X 射線分析幾何條件
● 使用可變壓力工作模式進行 樣品的電荷中和
● 大的樣品臺移動范圍
● 電子束襯管用于增強成像與 分析
● 用可選的 LaB6 電子源進行高性能成像EVO? 18-圓滿的材料分析解決方案
解決方案提供商卡爾?蔡司的納米技術系統部采用的 電子顯微鏡技術為用戶提供全面的解決方 案。公司廣闊的技術，在電子束技術領域中進行了超過 60 年的一絲不茍的努力， 對市場已經產生了很多開拓性的創新。我們 的應用與服務網絡保證對用戶的需求提供快速、可靠與高質量的技術支持。與專 有的升級戰略相結合，這將保護你的投資用 于它的整個壽命。這個技術嵌入我們新 研發的產品中，使我們能夠提供為我們用戶的事業增值的解決方案。

技術參數：成像方案: 導體 非導體 氣體析出樣品分辨率: 3.0 nm @ 30 kV (SE 與 W)
2.0 nm @ 30 kV (SE 帶有 )
4.5 nm @ 30 kV (VP 模式 - BSD 或 SE)加速電壓：0.2 - 30 kV放大倍數: 5 - 1,000,000 x視野: 6 mm 在分析工作距離(AWD)X 射線分析: 8.5 mm AWD，35°出射角OptiBeam?*模式: 分辨率、景深、分析、大視野壓力范圍: 10 - 400 Pa 用空氣或可選的水蒸汽可選探測器: ZEISS BSD 用于所有模式- 四象限半導體二極管探測器
VPSE - 可變壓力二次電子探測器
SCD - 樣品電流探測器樣品室尺寸: 365 mm (Φ) x 255 mm (h)5 軸電動計算機對中樣品臺: X = 125 mm
Y = 125 mm
Z = 50 mm (35 mm 電動)
樣品高度 120 mm
T = 0 - 90°
R = 360°(連續)
樣品臺由鼠標、操縱桿和控制板控制未來保證升級途徑: 電子束襯管
擴展壓力
水蒸汽 VP 氣體圖像處理: 分辨率可達 3072 x 2304 像素 用疊加和平均方式進行信號采集圖像顯示: 高對比度彩色平板 TFT 顯示器用于以 1024 x 768 像素顯示 SEM 圖像系統控制: 用鼠標和鍵盤操作的 SmartSEM?** GUI多語言簡明的 GUI Windows? XP 操作系統實用要求: 100 – 230 V, 50 或 60Hz 單相 不需要水冷OptiBeam?* — 以主動式鏡筒控制實現分辨率、視野或者景深SmartSEM?** — 第五代掃描電鏡控制圖形用戶界面