氮化硼乙醇共混法超細研磨分散機，氮化硼工業化超細研磨分散機，氮化硼超細研磨分散設備，氮化硼實驗室可工業化高速均質機

依肯(IKN)研磨分散機設計獨特，能夠延長易損件的使用時間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎?？梢砸粰C多用，也可以單獨使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進行調整。

氮化硼由于其特性與石墨相似而質地潔白，俗稱白石墨，有六方與立方兩種晶型，但通常呈六方結構。在高溫與超高壓的特殊條件下，可將六方結構晶型轉化為立方晶型。氮化硼由于機械強度高，在高溫下無負載軟化現象，可作機械加工車削。氮化硼使用范圍廣泛，其粉末可作優良的潤滑劑與脫模劑，合成工程陶瓷材料后可用作熔煉蒸發金屬的坩堝、舟皿、液態金屬輸送管、戰斗機、火箭起飛噴口，大功率器件底座，半導體元件摻雜源，以及各種高溫、高壓或高頻的絕緣散熱部件。而立方氮化硼則為近似于金剛石的超硬材料。

CMD2000系列研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。第y級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體滯流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是指定轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗指定工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

CMD2000研磨分散機為立式分體結構，有一定輸送能力，可以處理高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子，進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料，對鐵雜質要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質。

從設備角度來分析，影響分散效果因素有以下幾點：

1.研磨頭的形式（批次式和連續式）（連續式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結構（分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）

5.循環次數（越多效果越好，到設備的期限就不能再好了。）

線速度的計算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。 
IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉子直徑）X 轉速 RPM  /   60

 所以轉速和分散頭結構是影響分散的一個zui重要因素，研磨分散機的高轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的

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