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四平太陽能超純水設備,四平電路板超純水設備,四平高純水制取設備
一.電子行業（特別是微電子行業）純水需求量大，其特點是水質要求較高.

主要應用于：
 
1.   大規模集成電路元器件的生產用水，一般電阻率均大于18MO-CM。按國家有關用水標準（GB/T11446.1-1997）執行。

2.  電子元件廠，在焊接和組裝過程中的沖洗用水。依據電子元件生產工藝不同，其用水標準中（即GB/T11446.1-1997）有可為四級（電導率18MO-CM以上，二級電阻率不低于15MO-CM，3級電阻率12MO-CM, 4級為0.5MO-CM）.

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二.制水工藝：
    
1（雙級反參透）加ED1（電脫鹽）,核子級混床以及除TOC及紫外線出水指標一般均達到18MO-CM以上。

2.反參透（1級或2級反參透）加ED1（電脫鹽），此工藝的優點是操作簡單，無需樹脂再生工藝，且出水指標一般均達到15MO-CM以上。

電鍍涂裝行業中，為了增加鍍件表面光潔度、亮度、附著力，電鍍液的配制需要用電導率在15us/cm以下的純水，另外在鍍件漂洗時也需用電導率在10us/cm以下純水來清洗，電鍍行業水處理系統包括電鍍前電鍍液配制需要的純水處理系統、電鍍漂洗廢水中稀有金屬回收漂洗水循環利用廢水零排放系統。通常系統由超濾裝置，反滲透裝置，離子交換裝置，EDI裝置等組合而成，以滿足電鍍行業對水質的要求。出水水質更好、更高!

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技術特征：
※制取電子級超純水
※可連續自動生產，不必停機再生
※出水水質優于常規離子交換法
※不需酸堿再生，不污染環境
※運行成本低，占地面積小

進水水質要求：
※鐵離子： < 0.01mg/L
※游離氯： < 0.5mg/L
※硬度： < 1.0mg/L
※活性SiO2: < 0.5mg/L
※總有機碳： < 0.5mg/L
※PH： 5.0-9.0

性能指標：
※出水電阻率： 10-18MΩ.cm
※SiO2： <10 ppb
※Na+： <10 ppb
※脫鹽率： >99.5%
※單臺產水量： 1-450 m3/h

應用范圍：
※電力、石化及冶金行業的水處理除鹽
※電子行業超純水的制取
※醫藥行業超純水的制取

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公司名稱：
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