特點:
經典消光法橢偏測量原理
儀器采用消光法橢偏測量原理,易于操作者理解和掌握橢偏測量基本原理和過程。
方便安全的樣品水平放置方式
緊湊的一體化結構
高穩定性光源
豐富實用的樣品測量功能
便捷的自動化操作
安全的用戶使用權限管理
可擴展的儀器功能
應用領域:
EX3適合于教學中單層納米薄膜的薄膜厚度測量,也可用于測量塊狀材料的折射率n和消光系數k。EX3可測量的樣品涉及微電子、半導體、集成電路、顯示技術、太陽電池、光學薄膜、生命科學、化學、電化學、磁質存儲、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等領域。技術指標:
| 項目 | 技術指標 |
| 儀器型號 | EX3 |
| 測量方式 | 自動測量 |
| 樣品放置方式 | 水平放置 |
| 光源 | 半導體激光器,波長635nm |
| 膜厚測量重復性* | 0.5nm (對于Si基底上100nm的SiO2膜層) |
| 膜厚范圍 | 透明薄膜:1-4000nm吸收薄膜則與材料性質相關 |
| 折射率范圍 | 1.3 – 10 |
| 探測光束直徑 | Φ2-3mm |
| 入射角度 | 30°-90°,0.05° |
| 偏振器方位角讀數范圍 | 0-360° |
| 偏振器步進角 | 0.014° |
| 樣品方位調整 | Z軸高度調節:16mm二維俯仰調節:±4° |
| 允許樣品尺寸 | 圓形樣品直徑Φ120mm,矩形樣品可達120mm x 160mm |
| 配套軟件 | * 用戶權限設置* 多種測量模式選擇* 多個測量項目選擇* 方便的數據分析、計算、輸入輸出 |
| 外形尺寸 | (入射角度70°時)450*375*260mm |
| 儀器重量(凈重) | 15Kg |
性能保證:
- ISO9001國際質量體系下的儀器質量保證
- 的儀器使用培訓
- 的橢偏測量原理課程



