簡介

國際上同時分析NH3/NOx/O2三個組分的脫硝分析系統(tǒng)。

在電廠SCR脫硝工藝中，需要實時監(jiān)測SCR反應器入口的NOx/O2和出口NOx/O2/NH3 ，其中監(jiān)測NOx/O2用于環(huán)保排放控制和脫硝效率計算，監(jiān)測NH3的目的是，在脫硝時NH3的注入量既要保證有足夠的NH3與氮氧化物反應，以降低氮氧化物排放量，又要避免煙氣中逃逸過量的NH3，注入過量的NH3不僅會增加腐蝕，縮短SCR催化劑壽命，還會污染煙塵，增加空氣中預熱器中氨鹽的沉積，以及增加向大氣的NH3排放。

對SCR出口的氨逃逸量監(jiān)測并控制在2～3ppm，可延長空氣預熱器檢修周期及催化劑更換周期。

GA-5000nao是本公司在多年氣體分析產(chǎn)品研發(fā)基礎上設計的一款專用于脫硝系統(tǒng)在線監(jiān)測的高集成度原位式在線檢測儀。

GA-5000nao采用200°C高溫伴熱原位采樣、高溫測量技術，其中NOx采用高溫紫外差分吸收（DOAS）分析技術、O2采用高溫氧化鋯測量技術、NH3采用可調(diào)諧激光（TDLAS）測量技術。

氨逃逸形成

在大規(guī)模燃燒礦物燃料的領域，例如燃煤發(fā)電廠，都安裝了前燃（pre-combustion)或后燃（post combustion）NOX 控制技術的脫硝裝置，后燃NOX 控制技術可以是選擇性催化還原法(SCR) 也可以是選擇性非催化還原法(SNCR)，但是無論應用哪種方法，基本原理都是一樣的，即都是通過往反應器內(nèi)注入氨與氮氧化物發(fā)生反應，產(chǎn)生水和N2。注入的氨可以直接以NH3 的形式，也可以先通過尿素分解釋放得到NH3 再注入的形式，無論何種形式，控制好氨的注入總量和氨在反應區(qū)的空間分布便可以化的降低NOX 排放。氨注入的過少，就會降低還原轉(zhuǎn)化效率，氨注入的過量，不但不能減少NOX 排放，反而因為過量的氨導致NH3 逃逸出反應區(qū)，逃逸的NH3 會與工藝流程中產(chǎn)生的硫酸鹽發(fā)生反應生成硫酸銨鹽，且主要都是重硫酸銨鹽。銨鹽會在鍋爐尾部煙道下游固體部件表面上沉淀，例如沉淀在空氣預熱器扇面上，會造成嚴重的設備腐蝕，并因此帶來昂貴的維護費用。在反應區(qū)注入的氨分布情況與NO和NO2 的分布不匹配時也會出現(xiàn)氨逃逸現(xiàn)象，高氨量逃逸的情況伴隨著NOX 轉(zhuǎn)化效率降低是一種非常糟糕的現(xiàn)象和很嚴重的問題。

氨逃逸的危害

（1）逃逸掉的氨氣造成資金的浪費，環(huán)境污染；

（2）氨逃逸將腐蝕催化劑模塊，造成催化劑失活（即失效）和堵塞，大大縮短催化劑壽命；

（3）逃逸的氨氣，會與空氣中的SO3生成硫酸氨鹽（具有腐蝕性和粘結(jié)性）使位于脫銷下游的空預器蓄熱原件堵塞與腐蝕；

（4）過量的逃逸氨會被飛灰吸收，導致加氣塊（灰磚）無法銷售；

技術原理

氨逃逸在線監(jiān)測系統(tǒng)的測量模塊（如下圖）采用的是目前先進的TDLAS技術。

TDLAS(Tunable Diode Laser Absorption Spectroscopy)是可調(diào)諧二極管激光吸收光譜技術的簡稱，由于激光二極管采用半導體材料制成，通常又稱為可調(diào)諧半導體激光吸收光譜技術。

技術優(yōu)越性

與傳統(tǒng)的不分光紅外技術光譜技術相比，TDLAS技術具有很多顯著優(yōu)點：

(1)利用半導體激光良好的單色性,采用“單線光譜”技術避免背景氣體吸收的干擾；

(2) 利用半導體激光波長的可調(diào)諧性解決粉塵、視窗污染對測量的影響；

(3)無需采樣預處理，響應速度快，便于對生產(chǎn)過程進行控制；

(4) 實地測量，氣體信息不易失真，測量值為管道內(nèi)氣體的線平均濃度；

(5) 儀器內(nèi)部設有標定腔，測量過程中定時自動標定，無需手動標定；

(6) 儀器無運動器件，可靠性高,維護方便，運行費用接近于零(僅為電費)；

(7) 可自動修正環(huán)境溫度、壓力變化對測量的影響；

(8) 非接觸測量,有非常強的高溫、高粉塵和強腐蝕等惡劣工業(yè)環(huán)境的適應能力。