電鍍涂裝行業(yè)用水設(shè)備, 單晶硅超純水設(shè)備, 半導(dǎo)體用水設(shè)備

制備超純水的工藝大致分成以下幾種：

　　1、采用離子交換樹(shù)脂制備超純水的傳統(tǒng)水處理方式，其基本工藝流程為：原水→沙炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→原水箱→陽(yáng)床→陰床→混床（復(fù)床）→純水箱→純水泵→后置精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)　　

        2、采用反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備進(jìn)行組合的方式，其基本工藝流程為：原水→沙炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→原水箱→反滲透設(shè)備→混床（復(fù)床）→純水箱→純水泵→后置精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)

　　3、采用反滲透水處理設(shè)備與電去離子（EDI）設(shè)備進(jìn)行搭配的的方式，這是一種制取超純水的新工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟(jì)，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に嚕浠竟に嚵鞒虨椋涸?/span>→沙炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→原水箱→反滲透設(shè)備→電去離子（EDI）→純水箱→純水泵→后置精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)
　
三種制備超純水的工藝比較 ：

　　 目前制備電子工業(yè)用超純水的工藝基本上是以上三種，其余的工藝流程大都是在以上三種基本工藝流程的基礎(chǔ)上進(jìn)行不同組合搭配衍生而來(lái)?，F(xiàn)將他們的優(yōu)缺點(diǎn)分別列于下面：

　　1、種采用離子交換樹(shù)脂其優(yōu)點(diǎn)在于初投資少，占用的地方少，但缺點(diǎn)就是需要經(jīng)常進(jìn)行離子再生，耗費(fèi)大量酸堿，而且對(duì)環(huán)境有一定的破壞。

　　2、第二種采用反滲透作為預(yù)處理再配上離子交換設(shè)備，其特點(diǎn)為初投次比采用離子交換樹(shù)脂方式要高，但離子設(shè)備再生周期相對(duì)要長(zhǎng)，耗費(fèi)的酸堿比單純采用離子樹(shù)脂的方式要少很多。但對(duì)環(huán)境還是有一定的破壞性。

　　3、第三種采用反滲透作預(yù)處理再配上電去離子（EDI）裝置，這是目前制取超純水經(jīng)濟(jì)，環(huán)保用來(lái)制取超純水的工藝，不需要用酸堿進(jìn)行再生便可連續(xù)制取超純水，對(duì)環(huán)境沒(méi)什么破壞性。其缺點(diǎn)在于初投資相對(duì)以上兩種方式過(guò)于昂貴。

 電鍍涂裝行業(yè)用水設(shè)備, 單晶硅超純水設(shè)備, 半導(dǎo)體用水設(shè)備

電鍍涂裝行業(yè)中的應(yīng)用：

     電鍍涂裝行業(yè)中，為了增加鍍件表面光潔度、亮度、附著力，電鍍液的配制需要用電導(dǎo)率在15uS/cm-5uS/cm以下的純水，另外在鍍件漂洗時(shí)也需用電導(dǎo)率在10uS/cm以下純水來(lái)清洗，此外超濾和反滲透還可以用來(lái)回收漂洗液中的貴重金屬離子，滲透過(guò)來(lái)的水再返回作鍍件清洗之用。

產(chǎn)品典型工藝流程：

     ☆ 自來(lái)水----水泵----多介質(zhì)過(guò)濾器----活性炭過(guò)濾器----自動(dòng)加藥裝置----保安過(guò)濾器----高壓泵----反滲透----中間水箱----高壓泵----二級(jí)反滲透----純水箱----純水泵   新工藝
    ☆  漂洗水----水箱----水泵----多介質(zhì)過(guò)濾器----保安過(guò)濾器----超濾----電鍍液回收桶
    ☆  漂洗水----水箱----水泵----多介質(zhì)過(guò)濾器----保安過(guò)濾器----超濾----電鍍液回收桶----高壓泵----反滲透----清洗水箱

電鍍行業(yè)實(shí)行清潔生產(chǎn)：

     清潔生產(chǎn)是指不斷采取改進(jìn)設(shè)計(jì)、使用清潔的能源和原料、采用先進(jìn)的工藝技術(shù)與設(shè)備、改善管理、綜合利用等措施，從源頭削減污染，提高資源利用效率，減少或者避免生產(chǎn)、服務(wù)和產(chǎn)品使用過(guò)程中污染物的產(chǎn)生和排放，以減輕或者消除對(duì)人類健康和環(huán)境的危害。

     國(guó)際上早已制定了電鍍行業(yè)清潔生產(chǎn)的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，我國(guó)在2006年國(guó)家環(huán)?？偩纸M織相關(guān)人員研究并起草了《清潔生產(chǎn)技術(shù)要求 電鍍行業(yè)》標(biāo)準(zhǔn)，這無(wú)疑促進(jìn)了國(guó)內(nèi)電鍍行業(yè)走清潔生產(chǎn)的道路，為企業(yè)開(kāi)展清潔生產(chǎn)提供技術(shù)導(dǎo)向，也可以為企業(yè)清潔生產(chǎn)績(jī)效公告提供依據(jù)。

電鍍生產(chǎn)線全閉路生產(chǎn)及零排放水處理產(chǎn)品：

     電鍍生產(chǎn)線全閉路生產(chǎn)及零排放水處理系統(tǒng)包括電鍍前電鍍液配制需要的純水處理系統(tǒng)、電鍍漂洗廢水中稀有金屬回收漂洗水循環(huán)利用廢水零排放系統(tǒng)。

部分產(chǎn)品規(guī)格：

EDI工作原理:
     EDI模塊將離子交換樹(shù)脂充夾在陰/陽(yáng)離子交換膜之間形成EDI單元。EDI工作原理如圖所示。EDI模塊中將一定數(shù)量的EDI單元間用格板隔開(kāi)，形成濃水室和淡水室。又在單元組兩端設(shè)置陰/陽(yáng)電極。在直流電的推動(dòng)下，通過(guò)淡水室水流中的陰陽(yáng)離子分別穿過(guò)陰陽(yáng)離子交換膜進(jìn)入到濃水室而在淡水室中去除。而通過(guò)濃水室的水將離子帶出系統(tǒng)，成為濃水. EDI設(shè)備一般以二級(jí)反滲透（RO）純水作為EDI給水。RO純水電阻率一般是40-2μS/cm（25℃)。EDI純水電阻率可以高達(dá)18 MΩ.cm(25℃)，但是根據(jù)去離子水用途和系統(tǒng)配置設(shè)置，EDI超純水適用于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的純水。 

     EDI技術(shù)被制藥工業(yè)、微電子工業(yè)、發(fā)電工業(yè)和實(shí)驗(yàn)室所普遍接受。在表面清洗、表面涂裝、電解工業(yè)和化工工業(yè)的應(yīng)用也日趨廣泛。