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乳化機就是通過與發(fā)動機連接的均質(zhì)頭的高速旋轉(zhuǎn)，對物料進行剪切，分散，撞擊，這樣物料就會變得更加細膩，促使油水相融，廣泛應用于化妝品，沐浴露，防曬霜，等很多膏霜類的產(chǎn)品都要用到乳化機，食品行業(yè)中的醬，果汁等，制藥行業(yè)中的軟膏，石油化工，油漆涂料油墨等都會用到乳化機。目制藥行業(yè)中需要用的也是比較多的，需要把藥品制作成藥膏，但是目大多數(shù)的乳化機都是直接把粉末狀的藥品直接進行乳化，這樣使藥品在進行乳化的時候藥品的乳化不均勻，達到的乳化效果也不是很好，從而影響藥膏的效果。

針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，上海依肯新推出一種醫(yī)藥中間體高速研磨分散乳化機，上海依CMSD2000系列濕法研磨機是由膠體磨和分散機組合而成的高科技產(chǎn)品，先錐形研磨頭具有精細度遞升的多鋸齒凸起和凹槽。定轉(zhuǎn)子間隙可以根據(jù)需要無限制調(diào)整間隙。第二由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求。整機采用佳的幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，好的表面處理和優(yōu)良的材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。通過濕法研磨機定轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效的乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果，出料粒徑可以微納米。這樣使藥品粉末進行乳化，這樣乳化的更加均勻提高了乳化的效果等優(yōu)點，這樣可以提高藥品的乳化效果，使研磨與乳化同時進行，使藥品乳化的更加的均勻，提高藥膏的使用效果。解決了在進行藥品乳化先將研磨好的粉末狀藥品一次性投入到乳化桶內(nèi)進行乳化，這樣乳化的效果不是很好的問題。

影響研磨均質(zhì)分散乳化結(jié)果的因素有以下幾點

1研磨和分散乳化頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)

2研磨和分散乳化頭的剪切速率(越大，效果越好)

3研磨和分散乳化頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好)

4物料在分散墻體的停留時間，乳化分散時間(可以看作同等的電機，流量越小，效果越好)

5循環(huán)次數(shù)(越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好)

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

-剪切速率(s-1)=v 速率(m/s)g定-轉(zhuǎn)子間距(m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素:

-轉(zhuǎn)子的線速率

-在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子間距。

IKN定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為0.2~0.4mm

速率V=3.14XD(轉(zhuǎn)子直徑)X轉(zhuǎn)速RPM/60

CMSD2000系列醫(yī)藥中間體高速研磨分散乳化機選型表

型號

流量轉(zhuǎn)速線速度 功率 入/出口連接

LHrpmm/skWDN

CMSD 2000/430014000414DN25/DN15

11CMSD 2000/510001050041DN40/DN32

CMSD2000/10 400072004122DN80/DN65

CMSD2000/20 1000049004145DN80/DN65

CMSD 2000/30 20000 28504190DN150/DN125

CMSD 2000/50 60000 110041160DN200/DN150

表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%

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