Schmitt光學表面粗糙度測量儀
Schmitt集工業設計、制造、及測試、測量控制系統于一身，其旗下的施密特光學表面粗糙度測量系統創建于上世紀九十年代中期，致力于晶圓和光碟生產工業及表面光散射測量技術，其產品主要應用于平面粗糙度測試，比如硅片，硬盤及鏡面等等。施密特光學表面粗糙度測量系統向客戶提供快速，非接觸式測試，測量小于0.5?，有著其他競爭對手所無法比擬的水平。
Schmitt設計并制造了一系列高的表面測量及校準產品，產品涵蓋了國內外多樣化的市場需求。施密特的測量生產線由以下幾個系列的產品組成，包括磁盤和晶圓測量工具，先進的表面分析散射儀。
型號詳情：
μScan
產品優勢：
― 便攜式設計，輕巧方便
― 不受樣品大小或環境限制
― 無需安裝，一插即用
― 操作簡單，測量速度快
― 測量范圍1? ~1100?
(粗糙度: Ra, RMS, P-V)
― 測量，分辨率高
― 體積小，容量大，自帶內存可存儲
700個數據，255個檔案
― 可程式設定合格/不合格標準
― 可附加軟件用於控制，分析和文件轉換
― 應用: 光學表面、高精密機械加工表面、半導體硅片、軋制及成型加工表面
技術參數：
測量范圍: 粗糙度 (Ra, RMS, P-V) : 1? up to 1100?
反射率 (Reflectance) : 0.1 up to 100.0%
雙向反射分布函數(BRDF) : 1e-6 to 1e0 (sr-1)
空間帶寬: 上限 10 to 999 μm (可選)
下限 1.0 μm
測量時間: <5s
光斑尺寸: 1mm
重 復 性: ±0.5%
精 度: ±2% Reflectance
±3% Scatter
探測頭波長: 670nm (1300nm可選)
TMS-2000WRC
產品優勢：
― 非接觸式,無損樣品測試
― 粗糙度量程（Ra&RMS）0.2 ?~10,000 ?
― 可以徑向、軸向、整體&區域掃描測試
― 價格低于同級別的輪廓儀、AFM及干涉儀
― 操作簡單，測量速度快20～100點/秒
― 測量高，分辨率可達0.02?
― 重復性可達±0.1 ?
― 提高產品質量檢測的可控性
― 主要應用于晶圓測量單晶硅&SOI 等
技術參數：
光源: Class II Laser, 670 nm 光斑: ~1mm直徑
范圍: 0.2? - 10,000? (RMS 或 Ra) 分辨率: 0.02?
可重復: ±0.1? 再現: ±0.20 ?
測試點: 樣品整體掃描到單點測試
速度: 每秒鐘進行20~100次測量
測試參數: Ra or RMS (Rq) 微觀粗糙度 P-V, RMS 傾斜, TIS, 漫反射率, 鏡面反射率, 總反射率, R-C 率
空間濾波頻率: (波長)
低波段: 0.026 到 0.129 um-1 (7.8 到 38 um)
高波段: 0.129 到 1.14 um-1 (0.88 到 7.8 um)
全波段: 0.026 到 1.14 um-1 (0.88 到 38 um)
Comp Band: 從 0.2到 150um 可選
微觀粗糙度: 可以徑向、軸向、整體&區域掃描測試
TMS-3000WRC
產品優勢：
― 非接觸式,無損樣品測試
― 粗糙度量程（Ra&RMS）0.2 ?~10,000 ?
― 可以徑向、軸向、整體&區域掃描測試
― 價格低于同級別的輪廓儀、AFM及干涉儀
― 操作簡單，測量速度快20～100點/秒
― 測量高，分辨率可達0.02?
― 重復性可達±0.1 ?
― 提高產品質量檢測的可控性
― 主要應用于晶圓測量單晶硅&SOI 等
技術參數：
光源: Class II Laser, 670 nm 光斑: ~1mm 直徑
測試點: 樣品整體掃描到單點測試 速度: 每秒20~100次測量
范圍: 0.2? - 10,000? (RMS或Ra) 分辨率: 0.02?
可重復: ±0.10 ? 再現: ±0.20?
測試參數: RA or RMS (Rq) 微觀粗糙度 P-V, RMS 傾斜, TIS, 漫反射率,鏡面反射率, 總反射率, R-C 率,
空間濾波頻率: (波長)
低波段: 0.026 到 0.129 um-1 (7.8 到 38 um)
高波段: 0.129 到 1.14 um-1 (0.88到 7.8 um)
全波段: 0.026 到 1.14 um-1 (0.88到 38 um)
Comp Band: 從 0.2到 150um可選
微觀粗糙度：可以徑向、軸向、整體&區域掃描測試
詳情可見網站：https://www.dymekchina.cn/
