- 品牌/商標：Filmetrics
- 企業類型：制造商
- 新舊程度：全新
- 原產地：美國
膜厚測量儀的詳細介紹
通過Filmetrics膜厚測量儀新反射式光譜測量技術,多4層透明薄膜厚度、 n、k值及粗糙度能在數秒鐘測得。其應用廣泛，例如 :
半導體工業 : 光阻、氧化物、氮化物。
LCD工業 : 間距 (cell gaps)，ito電極、polyimide 保護膜。
光電鍍膜應用 : 硬化鍍膜、抗反射鍍膜、過濾片。
極易操作、快速、準確、機身輕巧及價格便宜為其主要優點，Filmetrics提供四種不同型號以供選擇:
F20 : 這簡單入門型號有三種不同波長選擇(由220nm紫外線區 至1700nm近紅外線區)為任意攜帶型。薄膜厚度范圍是 30a到100nm，為1a゜。
F30:這型號可安裝在任何真空鍍膜機腔體外的窗口。可實時監控長晶速度、實時提供膜厚、n、k值。并可切定某一波長或固定測量時間間距。更可加裝至三個探頭，同時測量三個樣品，具紫外線區或標準波長可供選擇。
F40:這型號安裝在任何顯微鏡外，可提供小5um光點(100倍放大倍數)來測量微小樣品。
F50:這型號配備全自動xy工作臺，由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可。通過快速掃瞄功能，可取得整片樣品厚度分布情況(mapping)。
負擔得起膜厚測量儀系統F20
使用F20分光計系統可以簡便快速的測量厚度和光學參數（n和k）。您可以在幾秒鐘內通過薄膜上下面的反射比的頻譜分析得到厚度、折射率和消光系數。任何具備基本電腦技術的人都能在幾分鐘內將整個桌面系統組裝起來。 F20包括所有測量需要的部件：分光計、光源、光纖導線、鏡頭集合和Windows下運行的軟件。您需要的只是接上您的電腦。 膜層實例 幾乎任何光滑、半透明、低吸收的膜都能測。包括： sio2（二氧化硅） sinx（氮化硅） dlc（類金剛石碳） photoresist（光刻膠） polyer layers（高分子聚合物層） polymide（聚酰亞胺） polysilicon（多晶硅） amorphous silicon（非晶硅） 基底實例： 對于厚度測量，大多數情況下所要求的只是一塊光滑、反射的基底。對于光學常數測量，需要一塊平整的鏡面反射基底；如果基底是透明的，基底背面需要進行處理使之不能反射。 包括：
silicon（硅） glass（玻璃） aluminum（鋁） gaas（砷化鎵） steel（鋼） polycarbonate（聚碳酸脂） polymer films（高分子聚合物膜）
應用
| 半導體制造 | 液晶顯示器 | 光學鍍膜 |
| photoresist光刻膠 oxides氧化物 nitrides氮化物 | cell gaps液晶間隙 polyimide聚酰亞胺 ito納米銦錫金屬氧化物 | hardness coatings硬鍍膜 anti-reflection coatings增透鍍膜 filters濾光 |
f20 使用仿真活動來分析光譜反射率數據。 標準配置和規格
| F20-UV | F20 | F20-NIR | F20-EXR | |
| 只測試厚度 | 3nm ~ 70μm | 15nm ~ 70μm | 100nm ~ 250μm | 15nm ~ 250μm |
| 測試厚度和n&k值 | 50nm ~ 5μm | 100nm ~ 5μm | 300nm ~ 10μm | 100nm ~ 10μm |
| 波長范圍 | 200-1100nm | 380-1100nm | 950-1700nm | 380-1700nm |
| 準確度 | 大于 0.4％ 或 2nm | |||
| 1A | 2A | 1A | ||
| 穩定性 | 0.7A | 1.2A | 0.7A | |
| 光斑大小 | 20μm至1.5mm可調 | |||
| 樣品大小 | 1mm至300mm 及更大 | |||
| 探測器類型 | 1250-元素硅陣列 | 512-元素 砷化銦鎵 | 1000-元素 硅 & 512-砷化銦鎵陣列 | |
| 光源 | 鎢鹵素燈，氚燈 | |||
| 電腦要求 |
60mb 硬盤空間 50mb 空閑內存 usb接口 | |||
| 電源要求 | 100-240 vac, 50-60 hz, 0.3-0.1 a | |||
